百师联盟2024届高三一轮复习联考(三) 化学(福建卷)试题试卷答案答案

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②衡时气体压强与初始时气体压强比为--。③能说明SO2(g)转化为SO(g)的反应已达衡状态的是---。a.2v正(SO2)=v逆(O2)b.c(s02:c(O2)=2:1c.容器内压强保持不变d.单位时间内消耗n mol SO2同时生成nmolS03(3)SO2一O2燃料电池可实现在能量利用的同时制备硫酸,其装置如下图所示。负载S02+H2002+H,0H2SO质子交换膜(增湿)电极bPtPt电极a①该装置可以将】能转化为能。②电池工作时.电子导体中电子移动方向为_---(选填“a到b"或“b到a”)。14.(12分)一种回收利用某废催化剂[主要含铝(AI)、钼(Mo)、镍(Ni)等元素的氧化物]中Al、Mo的工艺流程如下:NaOH溶液过量CO2适量BaCl2溶液废催化剂研磨碱浸→沉铝沉钼BaMoOa(s)↓含Ni固体Al(OH)3---->AlAs已知:Al2O3+2OH+3H2O=2[AI(OH)4]回答下列问题:(1)“研磨”的目的是(2)“碱浸”中,有Na2MoO4生成,其中M0元素的化合价为---。(3)“沉铝”中,发生反应的离子方程式为(4)“沉钼"后所得滤液中主要存在的钠盐有NCI和Y,Y受热分解可制得纯碱,Y为(5)高纯AAs(砷化铝)可用干芯片制造。芯片制造中的一种刻蚀过程如图所示。H202刻蚀液光刻掩膜光刻掩膜致密保护膜GaAsGaAs-AIAs>AlAsGaAsGaAs①已知:Ga和AI同族,As和N同族。在H2O2与上层GaAs的反应中,As元素的化合价变为+5价,则该反应的氧化剂与还原剂物质的量之比为0②图中所示致密保护膜为一种氧化物,可阻止H2O2刻蚀液与下层GAs反应,该氧高一化学试题第5页共6页
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